Nils Hartmann

 

Technik und Methoden


Chemische Funktionalisierung

Self-Assembly via Dip und Spin Coating / Inertgas-Gloveboxtechnik,

nasschemische Ätzverfahren / Postfunktionalisierung,

Plasmaaktivierung / -funktionalisierung,

Tempertechniken, thermische Sinternverfahren / Oxidation.


cw-Lasermaterialbearbeitung

cw-Lasersystem, λ = 355 nm oder 532 nm,

cw-Lasersystem, durchstimmbar, zur resonanten Materialbearbeitung

und für Zwei-Farben-Experimente, λ1 = 514 nm, λ2 = 550 - 800 nm,

cw-Lasersystem zur dynamischen Mikromanipulation, λ = 532 nm.


ns-Lasermaterialbearbeitung

ns-Lasersystem mit Scanner, hochrepetitiv, zur schnellen Bearbeitung

von 4“‑Wafern, λ = 532 nm,

ns-Lasersystem, hochrepetitiv / durchstimmbar, zur resonanten    

Materialbearbeitung , λ = 280 – 400 nm, 532 – 900 nm.


fs-Lasermaterialbearbeitung

fs-Lasersysteme, λ = 500-1000 nm,  mit Kooperationspartnern.


Oberflächenanalytik

Rasterkraftmikroskopie (AFM),

Rasterelektronenmikroskopie (SEM),

Raster-Augerelektronenmikroskopie (SAES),

Auflicht-, Differentialinterferenzkontrast-, Fluoreszenzmikroskopie,

Ellipsometrie, Infrarot-Spektroskopie (IRRAS), Kontaktwinkelmessungen,   

neue laserstroboskopische Verfahren (Angew. Chem. Int. Ed. 50, 2011, 4513).


Datenanalyse / Modellierung

Thermokinetische Analyse / Temperaturrechnungen,

Standardverfahren zur Bild- und Videoanalyse,

Modellierungen auf der Basis von Reaktionsdiffusionsgleichungen.